ELETRÔNICA ANALÓGICA I
Para o circuito abaixo encontre a corrente do circuito, tensão no resistor e a potência dissipada pelo diodo de germânio. Considere a tensão da fonte de 25VCC e o diodo de germânio.
I = 0 mA VR = 0V Pd = 0 mW
I = 24 mA VR = 24V Pd = 24 mW
I = 24,7 mA VR = 24,7V Pd = 7,41 mW
I = 25 mA VR = 25V Pd = 0 mW
I = 24,3 mA VR = 24,3V Pd = 17 mW
A configuração abaixo caracteriza um transistor de junção bipolar de qual tipo?
NPN
SCR
PNP
JK
MOSFET
Dado VB = 4V para o circuito da figura abaixo, determine:
(a) VE
(b) Ic
(c) Vc
(d) VCE
(e)IB
(f) Beta
(a)0V; (b)10mA; (c)0V; (d)16V; (e)100uA; (f)100;
(a)-5,5V; (b)4,05mA; (c)-15,5V; (d)-7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)-2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)-24,10uA; (f)114;
(a)5,5V; (b)4,05mA; (c)15,5V; (d)7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)24,10uA; (f)114;
Para o circuito apresentado, quando S1 for acionado qual será o status das lâmpadas existentes no circuito ?
Acesas: L1 e L2 ; Apagadas: L3, L4, L3 e L5
Acesas: L1, L2 e L5 ; Apagadas: L4 e L3
Acesas: L1, L2, L3, L4 e L5 ; Apagadas: Nenhuma lâmpada
Acesas: L1, L2, L3 e L5 ; Apagadas: L4
Acesas: L1, L2, L4 e L5 ; Apagadas: L3
Escolha a alternativa que complete a frase: "O Diodo Semicondutor de Silício pode ser aplicado em um circuito denominado Retificador, utilizado para converter tensão AC em tensão ___________;"
Variável
Senoidal
DC
Triangular
Pulsante alternada
Para o circuito mostrado a seguir, encontre os seguintes valores: Tensão de pico na carga (Vp RL), Tensão média na carga (Vmed RL), Tensão reversa nos diodos (PIV), Frequencia do sinal na carga (Fs) e Corrente média nos diodos (Imed D). Considere os diodos de silício.
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
I = 0 mA VR = 0V Pd = 0 mW
I = 24 mA VR = 24V Pd = 24 mW
I = 24,7 mA VR = 24,7V Pd = 7,41 mW
I = 25 mA VR = 25V Pd = 0 mW
I = 24,3 mA VR = 24,3V Pd = 17 mW
A configuração abaixo caracteriza um transistor de junção bipolar de qual tipo?
NPN
SCR
PNP
JK
MOSFET
Dado VB = 4V para o circuito da figura abaixo, determine:
(a) VE
(b) Ic
(c) Vc
(d) VCE
(e)IB
(f) Beta
(a)0V; (b)10mA; (c)0V; (d)16V; (e)100uA; (f)100;
(a)-5,5V; (b)4,05mA; (c)-15,5V; (d)-7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)-2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)-24,10uA; (f)114;
(a)5,5V; (b)4,05mA; (c)15,5V; (d)7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)24,10uA; (f)114;
Para o circuito apresentado, quando S1 for acionado qual será o status das lâmpadas existentes no circuito ?
Acesas: L1 e L2 ; Apagadas: L3, L4, L3 e L5
Acesas: L1, L2 e L5 ; Apagadas: L4 e L3
Acesas: L1, L2, L3, L4 e L5 ; Apagadas: Nenhuma lâmpada
Acesas: L1, L2, L3 e L5 ; Apagadas: L4
Acesas: L1, L2, L4 e L5 ; Apagadas: L3
Escolha a alternativa que complete a frase: "O Diodo Semicondutor de Silício pode ser aplicado em um circuito denominado Retificador, utilizado para converter tensão AC em tensão ___________;"
Variável
Senoidal
DC
Triangular
Pulsante alternada
Para o circuito mostrado a seguir, encontre os seguintes valores: Tensão de pico na carga (Vp RL), Tensão média na carga (Vmed RL), Tensão reversa nos diodos (PIV), Frequencia do sinal na carga (Fs) e Corrente média nos diodos (Imed D). Considere os diodos de silício.
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
NPN
SCR
PNP
JK
MOSFET
Dado VB = 4V para o circuito da figura abaixo, determine:
(a) VE
(b) Ic
(c) Vc
(d) VCE
(e)IB
(f) Beta
(a)0V; (b)10mA; (c)0V; (d)16V; (e)100uA; (f)100;
(a)-5,5V; (b)4,05mA; (c)-15,5V; (d)-7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)-2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)-24,10uA; (f)114;
(a)5,5V; (b)4,05mA; (c)15,5V; (d)7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)24,10uA; (f)114;
Para o circuito apresentado, quando S1 for acionado qual será o status das lâmpadas existentes no circuito ?
Acesas: L1 e L2 ; Apagadas: L3, L4, L3 e L5
Acesas: L1, L2 e L5 ; Apagadas: L4 e L3
Acesas: L1, L2, L3, L4 e L5 ; Apagadas: Nenhuma lâmpada
Acesas: L1, L2, L3 e L5 ; Apagadas: L4
Acesas: L1, L2, L4 e L5 ; Apagadas: L3
Escolha a alternativa que complete a frase: "O Diodo Semicondutor de Silício pode ser aplicado em um circuito denominado Retificador, utilizado para converter tensão AC em tensão ___________;"
Variável
Senoidal
DC
Triangular
Pulsante alternada
Para o circuito mostrado a seguir, encontre os seguintes valores: Tensão de pico na carga (Vp RL), Tensão média na carga (Vmed RL), Tensão reversa nos diodos (PIV), Frequencia do sinal na carga (Fs) e Corrente média nos diodos (Imed D). Considere os diodos de silício.
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
(a)0V; (b)10mA; (c)0V; (d)16V; (e)100uA; (f)100;
(a)-5,5V; (b)4,05mA; (c)-15,5V; (d)-7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)-2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)-24,10uA; (f)114;
(a)5,5V; (b)4,05mA; (c)15,5V; (d)7,08V; (e)50,66uA; (f)225;
(a)3,3V; (b)2,75mA; (c)11,95V; (d)8,65V; (e)24,10uA; (f)114;
Para o circuito apresentado, quando S1 for acionado qual será o status das lâmpadas existentes no circuito ?
Acesas: L1 e L2 ; Apagadas: L3, L4, L3 e L5
Acesas: L1, L2 e L5 ; Apagadas: L4 e L3
Acesas: L1, L2, L3, L4 e L5 ; Apagadas: Nenhuma lâmpada
Acesas: L1, L2, L3 e L5 ; Apagadas: L4
Acesas: L1, L2, L4 e L5 ; Apagadas: L3
Escolha a alternativa que complete a frase: "O Diodo Semicondutor de Silício pode ser aplicado em um circuito denominado Retificador, utilizado para converter tensão AC em tensão ___________;"
Variável
Senoidal
DC
Triangular
Pulsante alternada
Para o circuito mostrado a seguir, encontre os seguintes valores: Tensão de pico na carga (Vp RL), Tensão média na carga (Vmed RL), Tensão reversa nos diodos (PIV), Frequencia do sinal na carga (Fs) e Corrente média nos diodos (Imed D). Considere os diodos de silício.
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
Acesas: L1 e L2 ; Apagadas: L3, L4, L3 e L5
Acesas: L1, L2 e L5 ; Apagadas: L4 e L3
Acesas: L1, L2, L3, L4 e L5 ; Apagadas: Nenhuma lâmpada
Acesas: L1, L2, L3 e L5 ; Apagadas: L4
Acesas: L1, L2, L4 e L5 ; Apagadas: L3
Escolha a alternativa que complete a frase: "O Diodo Semicondutor de Silício pode ser aplicado em um circuito denominado Retificador, utilizado para converter tensão AC em tensão ___________;"
Variável
Senoidal
DC
Triangular
Pulsante alternada
Para o circuito mostrado a seguir, encontre os seguintes valores: Tensão de pico na carga (Vp RL), Tensão média na carga (Vmed RL), Tensão reversa nos diodos (PIV), Frequencia do sinal na carga (Fs) e Corrente média nos diodos (Imed D). Considere os diodos de silício.
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
Variável
Senoidal
DC
Triangular
Pulsante alternada
Para o circuito mostrado a seguir, encontre os seguintes valores: Tensão de pico na carga (Vp RL), Tensão média na carga (Vmed RL), Tensão reversa nos diodos (PIV), Frequencia do sinal na carga (Fs) e Corrente média nos diodos (Imed D). Considere os diodos de silício.
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 41,03mA
Vp RL = 42,43V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 13,06mA
Vp RL = 41,03V ; Vmed RL = 26,12V ; PIV = 42,43V ; Fs = 120Hz ; Imed D = 26,12mA
Vp RL = 30V ; Vmed RL = 27,01V ; PIV = 42,43V ; Fs = 60Hz ; Imed D = 13,06mA
Para o circuito abaixo responda: Qual é o cicuito apresentado? Qual é o valor da tensão RMS no secundário (Vrms sec)? Qual valor da tensão média na carga (Vmed RL)? Qual é a frequencia do sinal de saída (Fs)?
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
Retificador de onda completa em ponte ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 30Hz
Retificador de meia onda ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 120Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 127V ; Vmed RL = 5,27V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 10,94V ; Fs = 60Hz
Retificador de onda completa com derivação central (Center Tap) ; Vrms sec = 12,7V ; Vmed RL = 5,27V ; Fsaída = 120Hz
Supondo que a corrente de coletor para base com emissor aberto vale 2 µA e que α = 0,996, escolha a alternativa que corresponda ao valor da corrente de coletor para emissor com a base aberta.
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
Iceo = 1mA
Iceo = 0,35mA
Iceo = 0,85mA
Iceo = 0,55mA
Iceo = 0,5mA
Como podemos descrever o processo realizado no cristal de silício, conforme imagem abaixo.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Escolha a alternativa que representa o ponto de operação do transistor no circuito abaixo:
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações moleculares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações nucleares.
Processo de dopagem no cristal de germânio, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo N e átimos de fósforo para construir materiais tipo P. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.
Processo de dopagem no cristal de silício, em que átomos de boro são utilizados para construir materiais tipo P e átimos de fósforo para construir materiais tipo N. Os eletróns são compartilhados entre dois átomos através de ligações covalente.